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化学气相沉积(CVD)技术!-《台风资讯
作者:admin 发布于:2024-03-01 15:25 文字:【】【】【

  是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术,包括大范围的绝缘材料,大多数金属材料和金属合金材料乐橙体育平台。

  从理论上来说,它是很简单的:两种或两种以上的气态原材料导入到一个反应室内,然后他们相互之间发生化学反应,形成一种新的材料,沉积到晶片表面上。淀积氮化硅膜(Si3N4)就是一个很好的例子,它是由硅烷和氮反应形成的。

  化学气相沉积法是传统的制备薄膜的技术,其原理是利用气态的先驱反应物,通过原子、分子间化学反应乐橙体育平台,使得气态前驱体中的某些成分分解,而在基体上形成薄膜。化学气相沉积包括常压化学气相沉积乐橙体育平台、等离子体辅助化学沉积、激光辅助化学沉积乐橙体育平台、金属有机化合物沉积等乐橙体育平台。不过随着技术的发展乐橙体育平台乐橙体育平台,CVD技术也不断推陈出新乐橙体育平台,出现了很多针对某几种用途的专门技术,在此特为大家介绍两种CVD技术乐橙体育平台。

  等离子体增强化学气相沉积(PECVD)是在化学气相沉积中乐橙体育平台,激发气体乐橙体育平台,使其产生低温等离子体乐橙体育平台,增强反应物质的化学活性,从而进行外延的一种方法。该方法可在较低温度下形成固体膜。例如在一个反应室内将基体材料置于阴极上乐橙体育平台,通入反应气体至较低气压(1~600Pa)乐橙体育平台乐橙体育平台,基体保持一定温度乐橙体育平台,以某种方式产生辉光放电,基体表面附近气体电离乐橙体育平台,反应气体得到活化乐橙体育平台乐橙体育平台,同时基体表面产生阴极溅射,从而提高了表面活性。在表面上不仅存在着通常的热化学反应乐橙体育平台乐橙体育平台,还存在着复杂的等离子体化学反应乐橙体育平台。沉积膜就是在这两种化学反应的共同作用下形成的。激发辉光放电的方法主要有:射频激发,直流高压激发,脉冲激发和微波激发。

  等离子体增强化学气相沉积的主要优点是沉积温度低,对基体的结构和物理性质影响小;膜的厚度及成分均匀性好;膜组织致密、针孔少;膜层的附着力强;应用范围广,可制备各种金属膜、无机膜和有机膜。

  热丝CVD采用高温下的低压气相沉积,碳氢化合物在高温下发生化学反应,生成膜先驱物乐橙体育平台,当样品温度合适时乐橙体育平台,这些膜先驱物在样品表面沉积形成金刚砂膜乐橙体育平台。低压化学气相沉积形成的膜层厚度及成分较为均匀乐橙体育平台,膜层致密乐橙体育平台。

  热丝CVD的基本化学反应为加热分解化合物(化学键断裂),及光分解(利用辐射能使化合物化学键断裂)。灯丝(钨丝或钽丝)通电后加热到2000摄氏度乐橙体育平台,气体(氢气乐橙体育平台,甲烷)传输至灯丝处,分解形成碳氢活性集团,黏附扩散至样片附近乐橙体育平台,当样品温度在600-1000摄氏度时,碳氢活性集团发生反应形成晶核乐橙体育平台乐橙体育平台乐橙体育平台,晶核形成岛状物,岛状物形成连续膜层乐橙体育平台乐橙体育平台乐橙体育平台,反应副产物脱离样片表面,流出生长室。

  鹏城半导体研发设计制造了热丝CVD金刚石设备(热丝法化学气相沉积CVD),分为实验型设备和生产型设备两类。

  设备主要用于微米晶和纳米晶金刚石薄膜的研发和生产。可用于力学级别乐橙体育平台、热学级别、光学级别、声学级别的金刚石产品的研发生产。

  可以制造大尺寸金刚石多晶晶圆片,用于大功率器件、高频器件及大功率激光器的散热热沉乐橙体育平台。

  可用于平面工件的金刚石薄膜制备乐橙体育平台,也可用于刀具表面或其它不规则表面的金刚石硬质涂层制备乐橙体育平台。

  矩形工作尺寸的宽度1000mm/长度可根据镀膜室的长度确定(如:工件长度1500mm)。

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